公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-07-24

目前掩膜版清洗常用的方法是使用氢氧化钾溶液进行冲洗，然后再在掩膜版光学检测设备中进行检查，检查结果不合适后再次投入氢氧化钾溶液进行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版的制作最重要的设备就是光刻机，光刻机英文名称Mask Aligner，又名光刻系统、曝光系统等，它采用激光直写的方式，在光刻掩膜版上面进行图...

2021-07-24

目前光刻掩膜版的等级规格主要以尺寸、精度、以及基板材料为维度进行划分。光刻掩膜版常用的的基板材料有石英玻璃和苏打玻璃，石英玻璃热膨胀系数...

2021-07-23

光刻掩膜版加工最小尺寸？光刻版加工尺寸有多种，不同行业常用尺寸也不同。 IC（集成电路）行业专用光刻掩膜版，常用石英和苏打3~14 inch的基材光掩...