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掩膜版的功能:它是制作掩膜图形的理想感光性空白板、用曝光的过程,把图形的信息传递到芯片上,这样来制造芯片。目前掩膜版的作用十分广泛,在涉及光刻工艺的行业均会用到掩膜版,例如:平板显示器、集成电路等。
光刻胶的功能:它是通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等诸多光源的照射及辐射,使得其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶:有光化学敏感性,它经过曝光,显影,刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩模版转移到待加工基片中。
铬版掩膜版
微米级别的电极掩膜版的制备工艺