光刻掩膜版的制作最重要的设备就是光刻机，光刻机英文名称Mask Aligner，又名光刻系统、曝光系统等，它采用激光直写的方式，在光刻掩膜版上面进行图形绘制，从而制作出掩膜版。

光刻机是光刻掩膜版制作的核心设备，也是芯片制作的重要设备制造和维护都需要高度的光学和电子工业的基础，目前光刻机还是国外少数厂家掌握，因此光刻机的价格非常昂贵。