光刻掩膜版加工最小尺寸？

光刻版加工尺寸有多种，不同行业常用尺寸也不同。

IC（集成电路）行业专用光刻掩膜版，常用石英和苏打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆盖0.13um，0.18um，0.25um，0.35um，0.5um及以上芯片工艺节点（node），最小图形制作高达0.5um，制作精度±0.03um，也可以根据客户的具体需求进行定制加工。

光刻掩膜版的应用还包括光学器件编码器等行业、FPC/MEMS(线路版、电子传感器)行业、LCD（液晶显示器）行业、Touch panel(触摸屏）行业等等。