公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2022-06-28

光刻掩膜版清洗一般使用掩膜版清洗液，是有专门的额清洗机器的。首先将掩膜版放入掩膜版清洗机一边冲洗一边旋转，将污染颗粒冲洗干净，之后在高速旋...

2022-06-21

光刻是一门比较综合的技术，它采用照相复印的技术，将光刻掩膜版上的图形复制在涂有光刻胶的金属蒸发层上。如果掩膜版受光刻胶污染，很大程度上会影...

2022-06-10

相位掩膜版是一种表面刻蚀光栅，基底材料为熔融石英的掩膜版，它可以作为精确的衍射光学元件，目前已在多家单位取得广泛应用。相位掩膜版的制造涉...

2022-06-02

掩膜版因为称光罩，是光刻过程中必不可少的一个工具，关于掩膜版的清洗方法多样，掩膜版厂家所提供的的清洗方法是用饱和的NaOH溶液浸泡5min, 用去离...