掩膜版因为称光罩，是光刻过程中必不可少的一个工具，关于掩膜版的清洗方法多样，掩膜版厂家所提供的的清洗方法是用饱和的NaOH溶液浸泡5min, 用去离子水冲洗，然后用50%浓硫酸泡5min，用去离子水冲洗，氮气吹干。

当然也有专门的设备，一般先使用掩膜版清洗液，将掩膜版放入掩膜板清洗机边冲洗边旋转，将污染颗粒冲洗干净。之后高速旋转甩干。掩膜板清洗机可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。

1.掩膜版RCA清洗方法

2.掩膜版UV+O₃清洗方法