所有文章-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-07-24

光刻掩膜版的总体费用主要包含原材料费用以及相关设备机台的使用费用，另外还有光刻掩膜版相关数据的使用软件的购买以及授权等费用、相关的服务器费...

2021-07-24

目前掩膜版清洗常用的方法是使用氢氧化钾溶液进行冲洗，然后再在掩膜版光学检测设备中进行检查，检查结果不合适后再次投入氢氧化钾溶液进行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版的制作最重要的设备就是光刻机，光刻机英文名称Mask Aligner，又名光刻系统、曝光系统等，它采用激光直写的方式，在光刻掩膜版上面进行图...

2021-07-24

目前光刻掩膜版的等级规格主要以尺寸、精度、以及基板材料为维度进行划分。光刻掩膜版常用的的基板材料有石英玻璃和苏打玻璃，石英玻璃热膨胀系数...