无掩膜版光刻即不采用光刻掩膜版的光刻技术，主要分为两类，即带电粒子无掩膜光刻和光学无掩膜技术。

无掩膜光刻具备分辨率高、成本较低等优势，同时也面临着生产效率低的问题。电子束之间的干扰易造成邻近效应，耗时长，激光束准确度不稳定，与现有成熟工艺兼容不够等都是想要进入量产阶段需要克服和解决的问题。