步进式光刻掩膜版的材料是石英，因为石英掩膜版使用在深紫外光刻中使用，石英基材的热膨胀系数非常小，所以在温度改变时间也是相对稳定的，而且石英基材在深UV和近深UV区域都有很高的穿透系数，所以步进式掩膜版使用石英材料，也是因为其具有高光学透射性能。

　　步进式光刻版使用过程是需要多次曝光，由于版图尺寸较大，一般常见为4:1或5:1，所以再硅片能够行程亚微米级别的尺寸图形。