光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶，在做工艺时，使用正性光刻胶，光刻掩膜版上透光区域的光刻胶会被显影掉，蒸发金属时透光区域区域留下金属Cr，反之，使用负性光刻胶，光刻掩膜版上不透光区域的光刻胶会被显影掉，蒸发金属时不透光区域区域留下金属Cr。图形不透光，称为亮场掩膜版，图形透光则被称为暗场掩膜版。