公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-11-19

　　光刻就是利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀将光掩膜上的图形转移到衬底上，是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤。光...

2021-11-08

　　电子束光刻技术又被称为电子束曝光，这种工艺是利用电子束，在已经进行过清洗、涂胶的硅片或者其他衬底上直接进行图形绘制或投影复制图形的技术，...

2021-10-22

　　光刻掩膜版，也通常称为掩膜板，它是我们在微纳加工技术中常用的光刻工艺中使用的图形的母版。通常对掩膜版的基本求如下：（1）精度高：图形...

2021-10-15

　　掩膜版早期是以1:1的比例紧贴在硅晶圆上，通常由各个半导体公司自行设计工具来进行掩膜版曝光，GCA、KS和Kasper等公司也会提供部分相关设备。直...