所有文章-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2022-08-16

在光刻掩膜版的工艺中，我们知道在光刻胶的下面是要被刻蚀形成图案的底层薄膜，倘若这个底层是反光的，光线就有可能从这个膜层反射而且会损害临近的...

2022-08-06

掩膜版的制造工艺是集成电路的质量的集成度的重要工序，光刻掩膜版是一块石英板，它可以确定一张硅片中的工艺层所需的完整管芯阵列。掩膜版制作：首...

2022-07-15

掩膜版也被称作是光刻版，用于光刻过程中，光刻是半导体制造过程中的关键接部分，也是流程造价最高的一部分。比较常见的光掩膜版种类有四种，分别是...

2022-07-06

光刻是通过特定的生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分去除的工艺，需要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、...