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在光刻掩膜版的工艺中,我们知道在光刻胶的下面是要被刻蚀形成图案的底层薄膜,倘若这个底层是反光的,光线就有可能从这个膜层反射而且会损害临近的光刻胶,这个损害对线宽控制将会带来不好的影响。鉴于这种现象,抗反射层涂层有着很强的必要性。底部的抗反射涂层分为邮寄抗反射涂层和无机反射涂层两种,两者相比,有机抗反射涂层更容易被去除。顶部的抗反射涂层由于不吸收光,一般是作为一个透明的薄膜干涉层,通过光线间的相干相消来消除反射。
正性光刻对掩膜版有何要求
掩膜版的制作和光刻胶的原理