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电极掩膜版一般应用于电子束蒸发、磁控溅射、热蒸发等设备中,可以用来制作太阳能电池、激光器光电探测器、场效应晶体管等各种器件电极以及各种薄膜材料图形设计。
电极掩膜版制备工艺一般采用曝光腐蚀工艺,这种方法可以比较好的根据客户灵活的设计好图案,制备出符合要求的图案尺寸标准。
掩膜版与光刻胶的功能和作用
光刻掩膜版的技术原理是什么?