掩膜版 光掩膜基版 光掩膜 光刻掩膜版
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光刻工艺对掩膜版的质量要求
【2022-09-23】

光刻是芯片设计中的重要技术。它具体是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的一种技术。那光刻工艺对掩膜版的质量要求：精度高、反差强、耐磨损、套刻准。


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