业内人士分析称，EUV光刻机算得上是有史以来人类所发明的最精密的仪器，不仅重量高达180吨以上，而且光是核心零部件就超过了10万个，更是集合了多国的高精尖技术才研发出来的。M国曾有位工程师说，他为光刻机调整一个零件就花费了整整10年的时间。EUV光刻机的难度可想而知。

所以全球光刻机领域的佼佼者ASML才说：“就算把图纸给你们，你们也不可能造出光刻机”。事实真是如此吗？其实我国早就制造出了90nm的光刻机，28nm的也取得了关键突破。我们国家要想制造出EUV光刻机，就需要集齐光刻机所需高精尖技术的全套人才，这个数字是非常庞大的，所以任正非才说：黄刻机只是工程制造问题，花时间就能解决，中国真正缺的是人才。

其实在华为被断供前，大家都对ASML和台积电不了解，现在算是知道了什么才是芯片的制高点，而会设计芯片只不过是学会了皮毛而已。所以从华为被打压后，国内厂商都开始明白，想要在经济全球化时代脱颖而出，显然离不开自主研发，还有手握核心技术才能够走的更远，才不畏惧别人的“技术封锁”。

现在让ASML意想不到的是，国内在光刻机领域真的在发力了，日前中国电子科技传出好消息，离子注入机取得了重大突破，实行了100%国产化。虽然28nm工艺制程光刻机还没达到国际一流水平，但也是一个重要的信号，就是国内已经在光刻机领域要自主创新，不再依赖进口。

无疑是让国内更多厂商看到了希望，不依靠别人照样能够自主研发，虽然在7nm、5nm工艺制程上与西方还有很大的差距，但是随着国内厂商坚持不懈地投入到自主研发，而全球的“芯片慌”更是给我们营造了“弯道超车”的好时机。

转载自腾讯网-云旧时光青池