公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-07-28

在制作芯片的过程中，需要经过很多次光刻，可能十几次光刻，甚至几十次光刻，每进行一次光刻工艺，就需要一块光刻掩膜版，掩膜版的质量将会直接影响...

2021-07-24

光掩膜基版工序是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，用来承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的重要载体。在微纳(MEMS)加工过程中，光掩模版...

2021-07-24

掩模版制作的材质常见有石英玻璃，苏打玻璃等。石英玻璃：热膨胀系数非常小，在深UV和近深UV区域都有很高的穿透系数，但是石英玻璃的价格也较为昂贵...

2021-07-24

光刻掩膜版的检验是用传播光检查制作缺陷，在以前，这项检查是使用显微镜，人工来检验完成的，但如今掩膜版越来越复杂，检验工作也从人工检查转变...