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光刻掩膜版 中的抗反射层是怎么样的?小编来说一说: 在光刻工艺中,光刻胶的下面是要被刻蚀形成图案的底层薄膜,假设这个底层是反光的,光线很大概率就会从这个膜层反射而且会损害临近的光刻胶,这个损害对线宽控制...
铬版 掩膜版 在 IC 生产中会 大量使用 ,现社会因为 LCD 生产的档次 提高了,也加大了生产量, 铬板 也逐渐由 IC 行业 给 推荐 至 LCD 行业。铬板 的优点很多,比如: 线条精细 、 边缘锐利 、 刻蚀均匀 、 加工简单...
掩膜版 的功能:它是制作掩膜图形的理想感光性空白板、用曝光的过程,把图形的信息传递到芯片上,这样来制造芯片。目前掩膜版的作用十分广泛,在涉及光刻工艺的行业均会用到掩膜版,例如:平板显示器、集成电路等。...
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