IC（集成电路）行业专用光学掩膜版

产品概述：可提供多种尺寸和规格的IC行业专用光刻掩模版，提供石英和苏打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆盖0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工艺节点（node），最小图形制作高达0.5um，制作精度+/-0.03um，同时，公司可提供专业的Pellicle Remount(重贴膜)服务，覆盖ASML，NIKON，CANNON等主流光刻机类型。